Breve: Descubra el sistema RO y EDI de doble etapa de 500 LPH, diseñado para las industrias de semiconductores electrónicos. Este sistema de agua ultrapura combina ósmosis inversa y electro-deionización para ofrecer agua de alta calidad con una conductividad inferior a 0,2 uS/cm. Perfecto para aplicaciones exigentes que requieren agua ultra pura.
Características Relacionadas Del Producto:
El sistema de ósmosis inversa de dos etapas garantiza la eliminación efectiva de sales disueltas, bacterias e impurezas.
La tecnología EDI combina electrodiálisis e intercambio iónico para la producción continua de agua ultrapura.
El pretratamiento incluye filtros de arena de cuarzo y carbón activado para eliminar sólidos suspendidos y materia orgánica.
La calidad del agua de salida es inferior a 0,2 uS/cm, ideal para aplicaciones de semiconductores electrónicos.
El esterilizador UV garantiza agua libre de bacterias, mejorando la seguridad y la pureza.
El sistema CIP extiende la vida útil de la membrana de ósmosis inversa con una limpieza regular.
El diseño modular incluye bombas de alta presión, filtros de seguridad y sistemas de lecho mixto pulido.
Capacidad y configuración personalizables para satisfacer las necesidades industriales específicas.
Las preguntas:
¿Cuál es la calidad del agua de salida del sistema EDI?
El sistema EDI proporciona agua ultrapura con una conductividad inferior a 0,2 uS/cm, garantizando una salida de alta calidad para aplicaciones sensibles.
¿Qué pretratamiento se incluye en este sistema?
El sistema incluye filtración con arena de cuarzo, filtración con carbón activado y un filtro de seguridad para eliminar sólidos suspendidos, materia orgánica e impurezas antes de las etapas de ósmosis inversa (OI) y electrodesionización (EDI).
¿Cómo beneficia el sistema CIP a la membrana de ósmosis inversa?
El sistema CIP (Limpieza en el lugar) ayuda a limpiar la membrana de ósmosis inversa (OI) regularmente, previniendo la incrustación y extendiendo su vida útil operativa.